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米乐m6网址:集成电路EDA前沿技术研讨第1期:芯片制造的关键工艺——计算光刻OPC

作者:米乐发布时间:2025-03-20

  研讨活动背景

  随着芯片的复杂程度和集成度上升、产业分工以及设计成本攀升,EDA成为集成电路产业链的必备自动化工具,贯穿IC设计、制造、封测等环节。尽管EDA全球市场规模仅百亿美元,但作为集成电路行业的支点,其杠杆效应显著,撬动了约五千亿美元的半导体市场。

  EDA在赋能集成电路制造研发与量产上效应显著。随着芯片制造工艺不断演进,新材料、新工艺带来的技术挑战为下一代制造EDA技术提供新的发展机遇。光刻(lithography)是集成电路制造中相当重要的步骤。光刻是利用光化学反应(Photo-Chemical Reaction,PCR)原理把制备在掩模上的图形通过光刻投影系统转印至晶圆上的过程。计算光刻是使用计算机来模拟、仿真光刻工艺中光学和化学过程,从理论上探索增大光刻分辨率和工艺窗口的途径,指导工艺参数的优化。在先进工艺中,计算光刻已经成为光刻工艺研发的核心米乐m6网址

  集成电路设计自动化技术(EDA)前沿技术研讨活动,联合全芯智造资深研发专家围绕芯片制造的关键工艺——计算光刻OPC、良率分析及管理技术、器件与制程仿真的利器-TCAD三个系列开展研讨,为大家带来精彩分享。

  支持单位介绍

  全芯智造 作为专注于制造EDA软件企业,致力于通过人工智能等新兴技术赋能半导体制造业,实现由专家知识到人工智能的进化。目标打造大数据+人工智能驱动的半导体智能制造平台。此举将填补中国半导体制造业核心支撑软件和智能“大脑”的空白,加快国内半导体先进工艺研发,完善自主产业链,助力提升中国半导体制造的国际竞争力。

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  南京集成电路培训基地设计自动化培训部(EDA培训部)围绕企业研发过程中的实际难点和待探索创新技术的领域,以EDA工具开发、自主研发工具的示范应用为主要任务,以“集成电路EDA设计精英挑战赛”为抓手,进行以赛促教,成立“集成电路设计自动化产教融合联盟”进行创新机制探索,共同推进EDA课程体系和人才培养体系建设。

  联系方式

  王老师

  18761808089

  wangjing@icisc.cn

  濮老师

  13951036455

  purui @icisc.cnEND

  素材来源丨宁集学堂

  编辑丨徐光宇

  审核丨胡晓靓米乐M6

集成电路EDA前沿技术研讨第1期:芯片制造的关键工艺——计算光刻OPC

  发布丨徐光宇

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